EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Tantalkarbidbelagd degel
Semixlabs tantalkarbidbelagda (TaC) degel är speciellt utformad för högtemperatur- och kemiskt aggressiva miljöer inom halvledarbearbetning. Degeln är konstruerad med en tät CVD TaC-beläggning och erbjuder enastående värmebeständighet, korrosionsskydd och strukturell stabilitet, vilket gör den idealisk för SiC-epitaxis, GaN-tillväxt och CVD/ALD-applikationer. Förbättra din processsäkerhet och minska kontamineringsriskerna med vår premiumdegelteknik.
BESKRIVNING
Semixlab-tjänster
På Semixlab förstår vi de unika kraven inom FoU och produktion av halvledare. Vi erbjuder:
● Specialtillverkningstjänster
Skräddarsydda deglar i olika geometrier, tjocklekar och beläggningsspecifikationer för att matcha specifika processbehov.
● Småbatch- och prototypbeställningar
Flexibla orderkvantiteter, idealiska för pilotprojekt, akademisk forskning eller utveckling i tidigt skede.
● Snabba ledtider och global leverans
Snabba produktionscykler och global leverans stöder era scheman och behov av uppskalning.
Specifikationer
| Fysiska egenskaper hos TaC-beläggning | |
| Densitet | 14.3 (g/cm³) |
| Specifik emissionsförmåga | 0.3 |
| Termisk expansionskoefficient | 6.3*10-6/K |
| Hårdhet (HK) | 2000 HQ |
| Resistens | 1 × 10-5 Ohm*cm |
| Termisk stabilitet | <2500 ℃ |
| Grafitstorleken ändras | -10~-20um |
| Beläggningstjocklek | ≥20um typiskt värde (35um±10um) |
Tillämpningar
Genom att kombinera de unika fysikaliska fördelarna med tac-beläggningar med de utmärkta egenskaperna hos premiumgrafit används vår tantalkarbidbelagda degel huvudsakligen i följande halvledarprocesser:
▶ MOCVD- och HVPE-degelsystem
▶ Epitaxiell tillväxt av SiC, GaN, GaAs
▶ Högtemperaturglödgning och smältning
▶ Avancerad utrustning för wafertillverkning
Semixlab TaC-belagda deglar spelar en avgörande roll inom avancerad halvledartillverkning, särskilt i processer som kräver ultrahög temperaturstabilitet, minimal kontaminering och kemisk resistens – såsom epitaxi, kristalltillväxt och kemisk ångdeponering (CVD). Genom att tillhandahålla en kemiskt inert barriär och exceptionell termisk motståndskraft säkerställer TaC-belagda deglar processintegritet, materialrenhet och utrustningens livslängd över olika högpresterande tillverkningssteg.
Med anpassningsbara dimensioner, beläggningstjocklek och stöd för små serier erbjuder Semixlab skräddarsydda lösningar för att möta kraven inom avancerad halvledartillverkning. Vi hoppas innerligt kunna bli er långsiktiga partner i Kina.
konkurrens~~POS=TRUNC fördelar~~POS=HEADCOMP
Viktiga fördelar: Tantalkarbids fysikaliska egenskaper
Tantalkarbid (TaC) är känt för sin ultrahöga smältpunkt (~3880 °C), exceptionella hårdhet och kemiska inertitet – vilket gör det till en idealisk skyddande beläggning för grafitdeglar som används i halvledarmiljöer. Appliceringen av TaC-beläggning ger följande prestandafördelar:
● Extrem värmebeständighet
Motstår ultrahöga temperaturer utan deformation eller nedbrytning, vilket möjliggör stabila förhållanden för kristalltillväxt och högtemperaturbearbetning.
● Kemisk inertitet
Resistent mot aggressiva halogenbaserade gaser och syror som vanligtvis används i epitaxi- och etsningsprocesser, vilket förhindrar korskontaminering.
● Minimal partikelgenerering
Den täta, släta ytan på TaC-lagret undertrycker flagning och partikelavgivning, vilket säkerställer låga defektfrekvenser i renrumsmiljöer.
● Utmärkt värmeledningsförmåga
Säkerställer jämn värmefördelning under materialbearbetningen, vilket förbättrar utbyte och konsistens.
Basmaterial från ledande leverantörer
Våra deglar tillverkas med högrena grafitsubstrat från förstklassiga leverantörer som TOYO TANSO (Japan), vilket säkerställer strukturell integritet och beläggningskompatibilitet. Synergin mellan premiumgrafit och avancerad TaC-beläggning förbättrar både hållbarhet och prestanda under de mest krävande förhållandena.
Våra tjänster
Semixlab Produktbutik
